Новосибирский государственный технический университет. Инновационная деятельность
ИТЦ НГТУ
+73833460291
fee@first.nstu.ru

630092
Новосибирск
пр.К.Маркса 20
I корп. 342
Сенсор давления с диэлектрической изоляцией
Плазменная вакуумная электротехнология обработки порошковых материалов
Технологии изготовления структур кремний на изоляторе Si/CaF2/Si
Комплекс технологий переработки и использования отходов ТЭС


Сенсор давления с диэлектрической изоляцией


Сенсор предназначен для измерения давления и температуры в широком диапазоне.
Область применения: автомобильная, ракетно-космическая, нефтяная и газовая промышленность, а также в общетехнических измерениях.

В базовом кристалле использованы поликремниевые тензорезисторы и упругий элемент - мембрана. Толщина мембраны дифференцирована в зависимости от требуемой величины измеряемого давления.
Мембрана2х2мм
Чип5х5 мм
В составе сенсора - тестовые структуры для измерения электрофизических параметров тензорезисторов и температуры.
Применена диэлектрическая изоляция.

Преимущества:

  • Расширен температурный диапазон работы сенсоров до 3000C
  • Хорошая временная стабильность характеристик сенсора из-за отсутствия токов утечки р-п-переходов.

Информация о патенте

Информация о наградах: Серебряная медаль салона "Архимед 2011"


Плазменная вакуумная электротехнология обработки порошковых материалов



Плазменная электротехнология обработки тугоплавких металлов (W, Mo, Ta, Nb) и сплавов на их основе позволяет получить порошковые материалы с заданными свойствами высокой рафинированностью, хорошо разветвленной поверхностью частиц и повышенной текучестью

Предназначена для производства чистых и сверхчистых (99,999%) мелкодисперсных и ультрадисперсных порошков ( толщина частиц получаемых порошков менее 1 мкм), используемых в производстве катализаторов и высокоемких малогабаритных конденсаторов, порошковой металлургии и аэрокосмической промышленности.

Уникальность данной технологии проявляется в:
  • сокращении числа стадий химико-металлургических переделов обрабатываемого материала, что удешевляет себестоимость конечного продукта
  • высокой интенсивности рафинировочных процессов исходных порошков, что обеспечивает высокую степень их очистки от примесей, в т.ч. от кислорода
  • создании оптимальных технологических режимов, гарантирующих управляемость процессов обработки сырья и практически полную его переработку

Преимущества:

  • изготовление карбидоподобных и нитридоподобных материалов, имеющих свойства лучше, чем существующие твердые сплавы;
  • получение новых композиционных материалов;
  • снижение массогабаритов конденсаторов, увеличение емкости и уменьшение токов утечки конденсаторов, выполненных на основе порошков тантала.
Разработка награждена Серебряной медалью Сеульской Международной выставки изобретений “SIIF-2006” и Золотой медалью Женевского Международного салона избретений, новой техники и продуктов “Geneva-2007”.


Технологии изготовления структур кремний на изоляторе Si/CaF2/Si

Многослойные “кремний-изолятор-кремний” структуры Si/CaF2/Si являются перспективным материалом для микро- и наноэлектроники.

Разработана технология получения гетероэпитаксиальной структуры “Кремний-На Фториде-Кальция” Si/CaF2/Si в замкнутом технологическом цикле. При производстве интегральных схем число технологических процессов снижается более чем в два раза, что позволяет значительно снизить себестоимость процесса их изготовления.
Получаемые материалы обладают низким энергопотреблением, высокими быстродействием, радиационной стойкостью, степенью интеграции и надежностью.


Технология изготовления интегральных матричных фотоприемных устройств инфракрасного диапазона на основе многослойных структур PbSnTe/(Bа,Cа)F2/Si в монолитном исполнении позволяет получать их в замкнутом технологическом цикле.

Гетеросистема PbSnTe/Ba,CaF2/Si объединяет на одной кремниевой подложке схему обработки (микропроцессор) и слой PbSnTe обладающий фоточувствительными свойствами в области до 260 мкм.

Преимущества:

  • уникальная радиационная стойкость схемы обработки и самого фоточувствительного материала;
  • низкая себестоимость производства.


Комплекс технологий переработки и использования отходов ТЭС



Совместная разработка с ИК СОРАН

Комплекс технологий реализован на основе экономически привлекательных способов утилизации промышленных отходов и позволяет получать из золошлаковых отходов электростанций: Комплекс включает рецептурные технологии, не требующие сложного оборудования и обеспечивающие получаемым материалам улучшенные характеристики.

Преимущества:

Производство материалов и изделий на основе золошлаковых отходов и их компонентов экономически эффективно за счёт:
  • использования дешевого сырья,
  • снижения экологической нагрузки на окружающую среду в районе полигонов золошлаковых отходов, в том числе вредных выбросов в воздушную (пыль) и водную среду,
  • сокращения площадей дорогостоящих земельных участков, занятых под ЗШО в районе мегаполисов и экономии расходов на содержание золоотвалов.

Информация о наградах: Золотая медаль CIIF'2008, Золотая медаль Geneva'2008, Второе место на конкурсе инновационных проектов вузов Новосибирской области («УЧСИБ-2010»)

Гончарная керамика

содержание ЗШО (масс)20…60 %
температура формования20…30 оС
температура обжига950…1050 оС
прочность на сжатие6,0…8,0 МПа
водопоглощение10…50 %


Керамические покрытия (глазури, эмали)

содержание ЗШО (масс)10…90 %
температура сушки20…35 оС
температура обжига950…1000 оС
способ нанесенияокунание, пульверизация
содержание пигмента3…5 % масс
тип пигментанеорганический

Силикатные покрытия

содержание ЗШО (масс)20…60 %
ассортимент цветовне ограничен
тип пигментаорганический, неорганический
режим холодного отверждения:
температура20…35 оС
продолжительность200…500 час
режим горячего отверждения:
температура130…150 оС
продолжительность0,5…3 час
класс химической стойкости к растворам ПАВ (25 оС, 72 часа)А
связующеенатриевое жидкое стекло
высолообразование (25 оС, 6 мес.)отсутствует

Поризованная керамика низкотемпературного обжига

содержание ЗШО (масс)30…60 %
температура формования20…30 оС
температура обжига250…300 оС
прочность на сжатие5,0…5,5 МПа
пористость10…50 %
класс химической стойкости(25 оС, 72 часа)А


©НГТУ, Инновационно-технологический центр, 2007-2012